一、產(chǎn)品特性:
1、可在同一儀器上實(shí)現(xiàn)多種測(cè)量功能，真正意義上的萬(wàn)能摩擦磨損測(cè)試；
2、符合ASTM3702，ASTM G99與ASTM G133等國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)；
3、用于進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)摩擦系數(shù)曲線；
4、有旋轉(zhuǎn)，線性往復(fù)，環(huán)-塊，環(huán)-環(huán)四種工作模式；
5、采用位置譯碼器與速度譯碼器可控制馬達(dá)控制速度與位置；
6、可測(cè)量靜摩擦系數(shù)及Stribeck曲線；
7、*大載荷：100N；
8、轉(zhuǎn)度：0.01-5000rpm，15000rpm可選；
9、密封式裝置，可以控制環(huán)境，如：氣體、濕度、潤(rùn)滑等；
10、高溫模式選件，*高可測(cè)1100℃環(huán)境下的摩擦磨損；
11、實(shí)時(shí)接觸電阻測(cè)量選件可提供接觸電阻測(cè)試
12、表面形貌測(cè)試模塊選件用于測(cè)量磨損率,磨損前后二維表面形貌、磨損面積、磨損率、磨損深度、平整度、線粗糙度參數(shù)（Ra，Rp，Rv，Rz，Rc， Rt，Rq，Rsk，Rku，）等表面參數(shù)
13、原位電化學(xué)工作站選件，搭配普林斯頓的電化學(xué)工作站進(jìn)行摩擦腐蝕方向的研究。
14、真空模塊選件，可實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的摩擦磨損測(cè)試。
15、低溫模塊選件，可實(shí)現(xiàn)低溫-150℃下的摩擦磨損測(cè)試
二、產(chǎn)品應(yīng)用
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半導(dǎo)體技術(shù)：
·鈍化層
·金屬涂敷
·焊墊
醫(yī)療:
·藥片
·植入物
·生物組織
光學(xué)元件：
·棱鏡
·光纖
·光學(xué)元件涂層
·高容量光存儲(chǔ)：
·磁盤涂層
·CD涂層
·薄膜
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耐磨材料涂層：
·TiN,
TiC, DLC
·切削工具
工程：
·橡膠
·觸摸屏
·涂層
微電子器件系統(tǒng)
裝潢金屬涂層
汽車：
·噴漆涂層
·玻璃印刷層
·汽車精加工部件
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三、技術(shù)參數(shù)
主機(jī)參數(shù)：
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參數(shù)
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旋轉(zhuǎn)模式
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載荷范圍
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50mN-100N
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載荷分辨率
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6μN(yùn)
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旋轉(zhuǎn)速度
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0.01-5000rpm/0.05-15000rpm
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*大扭矩
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4.4Nm
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*大摩擦力
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+/-100N
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摩擦力分辨率（理論）
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6μN(yùn)
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X軸自動(dòng)控制范圍
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50mm
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X軸半徑分辨率
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2.5μm
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儀器尺寸
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65cm×52cm×65cm
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重量
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約70Kg
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盤尺寸
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100mm
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接觸探頭
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可選針型、球形與銷型
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線性往復(fù)模式
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*大振幅
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25mm
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*大掃描頻率
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60Hz@5mm沖程
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潤(rùn)滑控制系統(tǒng)（可選）
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液體消耗率
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60-90cm3/hour
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液體容量
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120ml
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液體容器
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包含
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高溫測(cè)量系統(tǒng)（可選）
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箱體溫度（旋轉(zhuǎn)模式）
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1100℃
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加熱片（線掃描模式）
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800℃
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液體加熱模式
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150 ℃
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分辨率
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1℃
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低溫模塊（可選）
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-40℃/-150℃
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深度傳感器（可選）
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*大位移量
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2000μm
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分辨率
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0.1nm
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接觸電阻（可選）
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*大阻抗
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0-1000
Ohms
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表面形貌儀模塊技術(shù)參數(shù)：
NANOVEA公司提供兩種光學(xué)測(cè)量探頭可供用戶選擇：
EP110(用于磨損較淺的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下：
1) Z方向測(cè)量范圍：100μm
2) Z方向測(cè)量分辨率：20nm
3) Z方向測(cè)量精度：50nm
4）橫向光學(xué)分辨率：3μm
5）光斑直徑：6μm
6)工作距離：1mm
EP1500(用于磨損較深的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下：
1) Z方向測(cè)量范圍：1.5mm
2) Z方向測(cè)量分辨率：200nm
3) Z方向測(cè)量精度：300nm
4）橫向光學(xué)分辨率：3.5μm
5）光斑直徑：7μm
6)工作距離：2.3mm